供应制药厂废气处理设备

   产生的废气主要成分：硫醇类，酮类，醚类，酚类，脂肪酸类

  制药厂在生产过程中的反应釜抽料、离心洗涤、冷却回收、真空干燥、常压蒸馏、中转罐和储罐、固废堆放场都会产生带有异味的有机废气。⑴反应釜排气:呈间断性无组织排放，排放源强波动范围大。主要污染来自挥发性溶剂以及反应过程产生的挥发性物质。一般反应釜排气经过冷凝后排放，冷凝介质大多为冷却水，少量为冷冻盐水。对于低佛点、易挥发的化合物而言，尾气中的化合物浓度仍明显超标；⑵溶剂回收过程冷凝尾气：即冷凝过程的不凝气，呈连续性无组织排放。主要有挥发性溶剂的饱和蒸汽和气体低沸化合物。一般排气量少，但浓度较高；⑶人工投料、缷料过程产生的无组织废气。呈间断性面源无组织排放，来自挥发性的化合物，包括溶剂、原料。制药厂废气排放特征如下：污染源数多，污染成分复杂，排放浓度较高，多呈阵发性、无组织排放。

 深圳市晶灿环保设备有限公司：拥有完全自主知识产权的高科技环保专利产品（专利号：ZL200920171772.6）主要以光催化氧化技术为核心发展领域，自主开发、设计和生产LCO系列废臭气体光催化净化设备、LCR系列光催化室内废气除臭循环净化系统、LCA系列光催化空气净化设备、LCD系列光催化消毒杀菌设备、LCY系列预处理设备等产品，同时提供环保技术咨询和技术改造、产品租售及配件选型等方面的服务。 

  光催化净化是基于光催化剂在紫外线照射下具有的氧化还原能力而净化污染特，利用光催化净化技术去除空气中的有机污染物具有以下特点：

1、  高效除恶臭：能高效去除挥发性有机物（VOC）及各种恶臭味，脱臭效率**可达99%以上；

2、  无需添加任何物质：只需要设备相应的排风管道和排风动力；

3、  适应性强：可适应高浓度，大气量，可每天24小时连续工作 ，运行稳定可靠；

4、  运行成本低：本设备无任何机械动作，无噪音，无需专人管理和日常维护；

5、  无需预处理：工作环境温度在常温60⁰C摄氏度以下、PH值在3－13之间均可正常工作；

6、  设备占地面积小，自重轻：处理10000m3/h风量设备占地面积＜1平方米；

7、  优质进口材料制造：防火、防爆、防腐蚀性能高，设备性能安全稳定；

8、  环保高科技产品：采用国际上先进技术，UVD波段紫外线照射在纳米二氧化钛催化网等优点，可彻底分解恶臭气体中有毒有害物质，并能达到**的脱臭效果，经分解后的恶臭气体，可完全达到无害化排放，绝不产生二次污染。

光催化氧化的定义：1、光催化氧化是在外界可见光的作用下发生催化作用，光催化氧化反应是以半导体及空气为催化剂，以光 为能量，将有机物降解为CO2和H2O。本公司采用的半导体是目前反应效率*高的纳米TiO2光催化剂，经过特殊处理后使用，达到理想效果。2、在光催化氧化反应中，通过紫外光照射在纳米TiO2光催化剂上产生电子空穴对，与表面吸附的水份（H20）和氧气（O2）反应生成氧化性很活泼的羟基 自由基（OH-）和超氧离子自由基（O2-、O－）。水（H2O）以及其它无毒无害物质，同时具有除臭、消毒、杀菌的功效，由于在光催化氧化反应过程中无任何添加剂，所以不会产生二次污染。